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                                                                產品目錄

                                                                聯系方式

                                                                北京歐屹科技有限公司
                                                                聯系人:魯工 王工
                                                                手機:13910937780,17600738803
                                                                電話:010-69798892
                                                                地址:北京市昌平區回龍觀西大街115號龍冠大廈3層
                                                                郵編:102208
                                                                郵箱:17600738803@163.com

                                                                產品中心

                                                                無掩膜光刻機

                                                                • 型 號:UTA-IA
                                                                • 訪問次數:2146
                                                                • 更新時間:2023-08-30
                                                                • 價   格:

                                                                無掩膜光刻機UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結合的縮小投影型無掩模曝光系統,其傳統系統(用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統) 可以使用專門為此目的開發的軟件來創建想要的圖案。

                                                                分享到:

                                                                無掩膜光刻機裝置概述:

                                                                • 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。

                                                                • 使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀,將具有機微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進行曝光。

                                                                • 圖案可以在PC上自由創建。

                                                                • 因為可以在普通的室內環境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極,所以它比電子束光刻便宜且簡單,不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。


                                                                無掩膜光刻機應用:

                                                                • 薄膜FET和霍爾效應測量樣品的電極形成。

                                                                • 從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。

                                                                • 研發應用的圖案形成。

                                                                參數:

                                                                • 由于顯微鏡和DLP的結合,可以用很低的成本來構建系統。

                                                                • 易于使用的軟件可以輕松的創建曝光圖案。

                                                                • 通過物鏡放大倍率圖案,可以進行大范圍的批量曝光。

                                                                • 可以連接到您自己的顯微鏡上(選項)。

                                                                • 分辨率在微米級。

                                                                • 曝光范圍:大2.5mm×1.5mm    小100um×60um。

                                                                • 可以連接到您自己的顯微鏡上(選項)。

                                                                • 分辨率在微米級。

                                                                • 曝光范圍:大2.5mm×1.5mm    小100um×60um。


                                                                留言框

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                                                                • 補充說明:

                                                                • 驗證碼:

                                                                  請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7
                                                                上一篇 : 工業級皮秒激光器    下一篇 :  ENT-5納米壓痕儀
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